旋轉鉻靶,熱壓鉻靶,熱等靜壓

旋轉鉻靶，20 世紀90 年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專(zhuān)業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國及亞太地區靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(cháng)各種薄膜 ，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對薄膜的意義重大。目前高等品質(zhì)靶材主要由:日本、德國和美國生產(chǎn)，我國靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細標準上與國外有不少的差距，國內也有許多大學(xué)及研究機構對靶材積極投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā)，經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展

2024-07-14 0

廣東AZO靶材,深圳A(yíng)ZO靶材,東

? ? ? 作為一個(gè)龐大且復雜的行業(yè)，芯片行業(yè)擁有一條超長(cháng)的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環(huán)節。除了在設計領(lǐng)域，其他三個(gè)環(huán)節，尤其是在制造環(huán)節，國內廠(chǎng)商的能力仍有較大的提升空間。高純貨品靶材被譽(yù)為半導體芯片材料的強者，半導體產(chǎn)業(yè)對濺射靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求非常高，隨著(zhù)更大尺寸的硅晶圓片制造出來(lái)，相應地要求濺射靶材也朝著(zhù)大尺寸、高純度的方向發(fā)展，同時(shí)也對濺射靶材的晶粒晶向控制提出了更高

2024-07-14 面議/公斤

單晶硅靶材,多晶硅靶材,綁定

? ? ? 鋁靶、銅靶用于導電層薄膜。在半導體芯片制造的金屬化工藝過(guò)程中，氧化鎢薄膜是一種被廣泛研究的功能材料。芯片行業(yè)擁有一條超長(cháng)的產(chǎn)業(yè)鏈。其整體可分為設計、制造、封裝、四大環(huán)節。除了在設計領(lǐng)域，華為海思擁有一定的打破能力，其他三個(gè)環(huán)節，尤其是在制造環(huán)節，國內廠(chǎng)商的能力仍有較大的提升空間。盡管全世界各大廠(chǎng)生產(chǎn)的材料幾乎都能99.99%的純度，但卻唯有日本廠(chǎng)商的材料能將純度達到99.999%。半導

2024-07-14 面議/套

硅鋯靶材,硅鋯靶,旋轉硅鋯靶

? ? ? 在裝飾鍍膜中也有著(zhù)廣泛的應用,獲得光亮、美觀(guān)、;價(jià)廉的塑料，陶瓷表面金屬化制品。廣泛應用于汽車(chē)、摩托車(chē)燈具、工藝美術(shù)、裝潢裝飾、燈具、家具、玩具、酒瓶蓋、化妝品、手機、鬧鐘、女式鞋后跟等領(lǐng)域。ITO有著(zhù)多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導體Si上形成勢壘作為SIS結的一層以及抗反射層。銦礦資源集中分布在中國、玻利維亞、俄羅斯等

2024-07-14 面議/套

鎳鐵合金靶,鎳鐵靶材,鎳鐵靶

? ? ? 透明導電氧化物（ＴＣＯ）薄膜因其導電性和透光性兼顧的特性，被廣泛應用于光學(xué)、電子、信息等技術(shù)領(lǐng)域。結果表明：成型壓力對 ＧＺＯ 靶材燒結時(shí)生成ＺｎＧａ２Ｏ４ 的固相反應有促進(jìn)作用，并且當成型壓力由１２０ＭＰａ提高到２００ＭＰａ時(shí)，固相反應生成更多的 Ｚｎ－Ｇａ ２ Ｏ ４ 尖晶石相導致 ＧＺＯ陶瓷燒結致密所需的溫度也有所提高．成型壓力為２００ＭＰａ時(shí)較高致密度靶材，相對密度達93.54

2024-07-14 面議/套

AZO旋轉靶材,光伏用azo靶材,

? ? ? ?尤供用應的AZO靶材，出口多個(gè)國家，目前能生產(chǎn)的比例有：98:2、99:1，化學(xué)式: AZO，成型工藝:冷等靜壓 高溫燒結 幫定。? ? ? AZO靶材是其中一種制造高科技節能玻璃鍍膜材料。銀銅合金靶材供應。陶瓷靶材。UVTM擁有真空等離子噴涂、真空熔煉爐、數控線(xiàn)切割、熱等靜壓等生產(chǎn)設備，熱噴涂、難熔金屬及液晶材料生產(chǎn)線(xiàn)。公司在大力拓展市場(chǎng)的同時(shí)，不斷完善內部體制。尤特新材在2009

2024-07-14 面議/千克