鋁釹靶材主要是用于平面顯示器、觸摸屏的玻璃基板電極層的鍍膜。目前主要是 用真空熔煉和熱壓燒結方法研發(fā)和生產小尺寸平面靶，大尺寸靶是通過小尺寸拼接形成。 由于不是一體化（需要拼接）容易產生電弧放電，因此成膜質量差，難以真實應用到高質量 的顯示屏、觸摸屏上。盡管，人們已經采用真空熔煉生產空心鋁釹靶靶管，并通過銦焊綁定 到不銹鋼背管上生產鋁釹旋轉靶材。由于銦焊料昂貴（占整個靶材成本50% )導致鋁釹 旋轉靶材的成本高；另一方面，由于是一節(jié)節(jié)靶管拼接而成存在節(jié)縫，在使用時容易形成電 弧放電，降低成膜質量。此外，由于采用低熔點的銦焊接，靶材使用時發(fā)熱，容易導致脫靶現(xiàn) 象，還有鋁釹靶管焊接時熱收縮不容易控制，焊接難度大。

尺寸一體化鋁釹旋轉靶材及其制備方法，特別涉及一種大尺寸一體化鋁釹旋轉靶材的制備。真空熔煉和熱壓技術由于成分不均勻容易產生偏析，再加上靶材形狀受到限制，已經不能滿足靶材成分均勻、大尺寸一體化的要求。濺射靶材生產過程屬于有色金屬物理加工，生產過程中不涉及有毒有害原料和有毒有害“三廢”，國家對濺射靶材行業(yè)的研發(fā)、生產、銷售不存在特殊管制。采用超音速火焰(HVOF)和電弧噴涂技術制備金屬陶瓷/合金多層涂層。結果表明：涂層籌備為扁平層狀結構，涂層與基體、涂層與涂層之間結合緊密，涂層的磨損質量損失與載荷成正比;磨料的硬度較高時，涂層的磨損質量損失較大，與單層涂層相比,多層涂層在較高載荷作用下具有較好的抗磨損性能。

真空鍍膜機是在中間設置真空室，在真空室的左右兩側設置左右大門，而在其中配裝蒸發(fā)裝置和磁控裝置，可在該雙門上預留該兩裝置的接口，以備需要時換裝。真空鍍膜機一般都是由真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、薄膜卷繞系統(tǒng)、冷卻系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等主要部分組成。當薄膜運行速度達到一定數(shù)值后，打開擋板使氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、冷卻即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、基材薄膜的移動速度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在250～500。

平面鋁釹靶/平面鉬鈮靶/平面鉬鈮靶

主營產品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

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