自20世紀80年代，以集成電路、信息存儲、液晶顯示器、激光存儲器、電子控制器為主的電子與信息產(chǎn)業(yè)開(kāi)始進(jìn)入高速發(fā)展時(shí)期，用真實(shí)進(jìn)入工業(yè)化規模生產(chǎn)應用領(lǐng)域。近10年來(lái)，濺射技術(shù)更是取得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。相比PVD另一大工藝真空鍍膜，厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，合力強等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。電子器件靶材的原材料有鎳鉻合金、鉻硅合金等，薄膜電容。靶材的方法很多。大體上，按應用領(lǐng)域。等）。稀土領(lǐng)域，比較一體的后起之秀。在濺射靶材應用領(lǐng)域中，半導體靶材是制造集成電路的關(guān)鍵原材料，也是技術(shù)要求高的靶材。高集成度，半導體靶材制造原料主要有非常高純度鋁、鈦、銅、鉭等。純度鋁、銅、鉬等。

在半導體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線(xiàn)。ITO片采用新型液態(tài)金屬印刷技術(shù)制成，厚度僅為1.5nm，可以沉積在各種基材上，然后可以像管一樣卷起來(lái)。氧化銦錫(ITO)導電膜具有良好的光學(xué)透光性能和導電性能，被廣泛應用于觸摸屏領(lǐng)域，它是電阻式與投射電容式觸控面板的基礎材料，其產(chǎn)業(yè)鏈下游市場(chǎng)為觸控模組和觸控面板。上游為光學(xué)級PET基膜、靶材和涂布液等化學(xué)原材料。從觸摸屏技術(shù)路線(xiàn)來(lái)看，分為掛式和內嵌式兩種。掛式電容屏技術(shù)有薄膜式和玻璃式兩種；內嵌式電容屏技術(shù)主要為In-cell和On-cell兩種。將ITO玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過(guò)鍍膜形成電極。銀納米線(xiàn)導電膜：銀納米線(xiàn)是一種新興的ITO導電膜潛在替代品。

濺射鍍膜靶材：高等應用領(lǐng)域就是TFT這一塊了，用量大的當數彩色濾光片 CF ，其次是Array。這兩塊的供應基本被國外廠(chǎng)商控制，國內幾家也都在向CF這塊進(jìn)行送樣。另一塊的應用就是ITO導電玻璃了。二、靶材市場(chǎng)：1、蒸發(fā)靶材：蒸發(fā)靶材的技術(shù)難度較高（針對LED芯片市場(chǎng)），目前大部分國家供應只有日本住友和長(cháng)沙壹納兩家，其中長(cháng)沙壹納靶材目前在國內的占有率已經(jīng)打破80%，品質(zhì)也相對穩定。其他廠(chǎng)家也嘗試進(jìn)入，但目前為止沒(méi)有批量導入的經(jīng)驗。從設備所占市場(chǎng)份額看，AMAT的產(chǎn)品覆蓋了整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈，眾多產(chǎn)品市場(chǎng)占有率處于****水平，包括PVD沉積設備（84.9%），P設備（66%），離子注入設備（73%）領(lǐng)域處于****水平。此外，泛林的刻蝕機市場(chǎng)占有率達到52.7%，科磊的檢測設備市場(chǎng)占有率達到70%。

氮化物是在電子和光電子應用方面有較大潛力的新型半導體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導電性的優(yōu)勢。是目前大部分國家半導體研究的熱點(diǎn)，是研制微電子器件、光電子器件的新型半導體材料。它具有寬的直接帶隙、強的原子鍵、高的熱導率、化學(xué)穩定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質(zhì)和強的抗輻照能力。氮化物靶材的鍍層顏色，根據不同的氮化物，可以獲得不同顏色，其中，氮化鈦（TiN）金顏色涂層，良好的硬度和潤滑性，附著(zhù)性好，適用于加工大部分材料。TiCN，藍灰色涂層，硬度越HV3000，耐熱400℃。TiN TiCN，深顏色涂層，良好的硬度和潤滑性，適用于加工大部分材料。

陶瓷靶材分為化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，產(chǎn)品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各類(lèi)混合摻雜物，純度99.5%-99.999%，適合磁控濺射鍍、熱蒸鍍、電子束蒸鍍，產(chǎn)品廣泛應用于各類(lèi)半導體行業(yè)、太陽(yáng)能光伏光熱行業(yè)、建筑、裝飾、汽車(chē)、平面顯示、LCD、LED、集成電路，元器件、磁記錄、裝飾、工具鍍膜、航空航天、****、科研等領(lǐng)域。不同的氮化物，可以獲得不同的鍍層顏色。其中，TiAlN是藍灰色涂層，硬度越HV3300，耐熱900℃。可用于高速加工；GrN是銀灰色涂層，良好的潤滑性能，主要用于有色金屬加工。

所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設備中用離子對目標物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。金屬靶材:鎳靶、N、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、kg、鈮靶、№b、錫靶、Sn、鋁靶、A1、銦靶、I、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiΔl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶Sⅰ、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、e、銀靶、Ag、鉆靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、億靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、H、鉬靶、M、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。磁控濺射原理：在被濺射的靶極（陰極）與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），較好磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓

電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率加大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導電材料外，也可濺射非導電的材料，同時(shí)還可進(jìn)行反應濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專(zhuān)注于時(shí)尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開(kāi)發(fā)和應用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開(kāi)拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應用涉獵范圍逐步擴大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng )新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機制，并承擔多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機構的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng )造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀(guān)，借鑒以往成功管理運營(yíng)經(jīng)驗，持續深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應用領(lǐng)域，做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

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