難熔金屬一般指熔點(diǎn)高于1650°C并有一定儲量的金屬，包括鎢、鉭、鉬、鈮、鉿、鉻、釩、鋯和鈦，也有將熔點(diǎn)高于鋯熔點(diǎn)即1852°C的金屬稱(chēng)為難熔金屬。以這些金屬為基體，添加其他元素形成的合金稱(chēng)為難熔金屬合金。[0003]作為濺射靶材使用的難熔金屬主要指鎢鉬鉭鈮。難熔金屬材料作為濺射已經(jīng)運用在包括液晶顯示器、薄膜太陽(yáng)能光伏、智能玻璃在內的多個(gè)領(lǐng)域。其中難熔金屬旋轉靶材是制造難熔金屬薄膜的必選材料。難熔金屬靶材需要具備包括高密度，通常不低于理論密度的98%以及較低的氧含量，一般小于1000PPM。

UVTM是一家專(zhuān)業(yè)研發(fā)、生產(chǎn)磁控濺射靶材的企業(yè)，擁有熱等靜壓預制、真空熱壓、真空熔煉、真空澆筑、冷熱擠壓、靶材綁定、機械加工的設備和能力。調節氮氣分壓可以改善靶材的現象改變基底偏壓可以有地控制金屬原子=向基體運動(dòng)的速率因此通過(guò)控制鍍膜中的工藝參數可以使靶材能更好的匹配鍍膜真空室內的環(huán)境從而制備出質(zhì)量更為不錯的涂層。靶材在使用過(guò)程中有較高的要求，不僅要求純度、尺寸，甚至還有晶粒尺寸均勻性等這些高要求使得我們在使用靶材時(shí)更加要注意。一種高純度旋轉靶材雜質(zhì)控制方法，其具有以下技術(shù)效果:通過(guò) 原料控制、生產(chǎn)控制、清洗控制、包裝和運輸控制，對靶材產(chǎn)品嚴格控制了來(lái)自原料和生產(chǎn) 過(guò)程的雜質(zhì)引入，克服了現有技術(shù)的旋轉靶材雜質(zhì)含量控制難、整管一致性難以保證的技 術(shù)問(wèn)題，從而獲得高品質(zhì)、低雜質(zhì)、整管高度一致的靶材產(chǎn)品，采用本方法生產(chǎn)的旋轉靶材純度可達到99.9 %以上。

通威股份的硅材料目前產(chǎn)能達到6.5萬(wàn)噸，今年達到8萬(wàn)噸，明年大概是11萬(wàn)噸。每噸成本在4萬(wàn)左右，目前市場(chǎng)價(jià)格在6-8萬(wàn)，公司的毛利達到28%。當然簡(jiǎn)單點(diǎn)評一下其他業(yè)務(wù)，通威股份的光伏電站 養魚(yú)是一體化的，由于屬于分布式光伏發(fā)電，這種新模式的上網(wǎng)電價(jià)比較高，利潤可觀(guān)。根據中國濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)數據顯示：靶材在半導體材料中占比約為2.5-3%。上海和廣州是全國經(jīng)濟中心城市，是國際的港口城市，也是長(cháng)三角的****城市。這里人才匯集、資源匯聚，對于長(cháng)三角乃至于全國的發(fā)展都有重要的帶領(lǐng)和示范作用。由于半導體濺射靶材市場(chǎng)與晶圓產(chǎn)量存在直接關(guān)系，以中國大陸晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能占大部分國家比例為15%計算。2018年中國半導體濺射靶材市場(chǎng)約1.2億美元。

非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結爐，真空蒸餾爐，區域熔煉熔爐，多溫區加熱爐，單晶爐，真空熱壓爐，高溫燒結爐，冷壓成型機，真空鍛軋設備，車(chē)床，磨床，銑床，鉆床，沖床，線(xiàn)切割等各種材料成型及機械加工設備。公司秉承"用戶(hù)至上，信譽(yù)"的宗旨，不斷加強企業(yè)創(chuàng )新，加快實(shí)施品質(zhì)和科技創(chuàng )新興企戰略，以****行業(yè)的工藝水準與技術(shù)儲備，以完善的品質(zhì)體系，為大部分國家的客戶(hù)服務(wù)，打造薄膜材料行業(yè)的品牌。異質(zhì)結電池在效率及商業(yè)化進(jìn)程上有新打破，異質(zhì)結電池可雙面發(fā)電，高溫發(fā)電性能好，容易實(shí)現彎曲及柔性，結構，是美觀(guān)與的結合體。異質(zhì)結電池量產(chǎn)效率已經(jīng)打破24%,如果和鈣鈦礦電池疊層結合將有望實(shí)現30%以上的效率，還可大幅降低封裝成本。

UVTM生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)鍍膜材料主要應用于：半導體芯片、裝飾鍍膜工業(yè)、太陽(yáng)能光伏、數據儲存工業(yè)（光盤(pán)）、平板液晶顯示（TFT-LCD）、光伏通訊工業(yè)、玻璃鍍膜（建筑玻璃和汽車(chē)玻璃）工業(yè)、抗腐蝕抗磨損（表面改性）等領(lǐng)域。公司生產(chǎn)的材料有各種高純度稀貨品，金屬合金，陶瓷和陶瓷制品組成。靶材可以制成各種形狀，大小和純度，以滿(mǎn)足設計規范，并提供靶材與背板的綁定服務(wù)（Bonding），真空陶瓷與金屬的焊接金屬化服務(wù)。UVTM具有經(jīng)驗豐富的粉末冶金，真空熔煉，化合物半導體，稀土冶煉研發(fā)團隊和經(jīng)驗豐富的人員組成，并與科研院校及海外公司有著(zhù)多年的技術(shù)和人才合作。生產(chǎn)設備主要有真空中頻感應熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐。

公司以市場(chǎng)為先導，技術(shù)為基礎，為滿(mǎn)足國內外新材料的迫切需求,對內進(jìn)行產(chǎn)品，結構和生產(chǎn)工藝調整，對外緊跟市場(chǎng)動(dòng)向，不斷研發(fā)各種適用當前需要的新型材料及制品.根據客戶(hù)的具體要求加工各類(lèi)磁控濺射靶材、鍍膜蒸鍍蒸發(fā)材料并為客戶(hù)提供技術(shù)上的服務(wù)與支持。材料種類(lèi)廣范有薄膜太陽(yáng)能電池用鍍膜材料及靶材；平面顯示及觸摸屏行業(yè)鍍膜材料用鍍膜材料及靶材；光學(xué)光通訊光存儲、磁數據存儲用鍍膜材料及靶材；裝飾與工模具用鍍膜材料及靶材;建筑與汽車(chē)玻璃大面積用鍍膜材料及靶材；各類(lèi)半導體化合物材料，如熱電轉換材料，光電探測和傳感焊接材料；各類(lèi)稀土金屬及稀土合金和其它功能合金材料;掃描電子顯微鏡（SEM）專(zhuān)用貨品片靶，同時(shí)公司還經(jīng)銷(xiāo)日本韓國寶島****高等ITO鍍膜靶材。

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