在霉菌試驗(yàn)箱的工作室內(nèi)定出上、中、下三個(gè)水平測(cè)試面，簡(jiǎn)稱上、中、下層。上層與工作室頂面的距離為工作室高度的十分之一，中層通過(guò)工作室?guī)缀沃行�，下層在較低層樣品架以下10mm處。（注：工作室其有斜頂或尖頂時(shí)，頂面為通過(guò)斜面與垂直壁面交線的假想水平面）。

     測(cè)試點(diǎn)位于三個(gè)測(cè)試面上，中心點(diǎn)位于工作室?guī)缀沃行�，其余測(cè)試點(diǎn)到工作室壁的距離為各自邊長(zhǎng)十分之一，但對(duì)工作室容積不大于1立方的試驗(yàn)箱，該距離不小于50mm。

      測(cè)試點(diǎn)的數(shù)量與工作室容積大小的關(guān)系為：

    1、霉菌試驗(yàn)箱工作室容積不大于2立方時(shí)，溫度測(cè)試點(diǎn)為9個(gè)，相對(duì)濕度測(cè)試點(diǎn)為3個(gè)，布放位置下圖。

      2、霉菌試驗(yàn)箱工作室容積不大于2立方時(shí)，溫度測(cè)試點(diǎn)為15個(gè)，相對(duì)濕度測(cè)試點(diǎn)為4個(gè)，布放位置如下圖。