SEIMILUMINOX拋光粉是以稀土元素氧化鈰為主要成份、經(jīng)日本技術(shù)生產(chǎn)而成。

H-500氧化鈰拋光粉主要用于光學組件、人工晶體的拋光。

H-500氧化鈰拋光粉的原料為碳酸稀土，和用氟碳鈰精礦做的拋光粉比較，具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長等特點。

用途

光學組件、人工晶體的拋光。

特征

切削力大、沈淀凝固少、不易堵塞拋光皮、不發(fā)生劃傷、表面精度高。

產(chǎn)品技術(shù)參數(shù)（參考數(shù)據(jù)，保證數(shù)值）

品種	平均粒徑（μm）	TREO（%）	CeO2（%）
H-500	1.2—1.6	≥93	≥60

※平均粒徑用激光粒度儀測定。

※TREO：總氧化稀土含量。

本公司主營玻璃、陶瓷、漂染、研磨拋光材料、稀有金屬化工原料、食品添加劑過氧化鈣等，到目前為止已和多家廠商建立了經(jīng)銷合作關系，如西藏礦業(yè)、新疆鋰鹽廠鋰系列產(chǎn)品(如碳酸鋰、氫氧化鋰、無水氯化鋰、氟化鋰等)；稀有金屬原料試劑(碳酸銣、銫)；硼系列產(chǎn)品(五水硼砂、無水硼砂、速溶硼砂、十水硼砂、硼酸)；稀土、金屬氧化物系列(氧化鑭、鈰、鐠、釹、鉺、釔、銪、鈷、鎳、硒、銅、鎘、錫、鋅)；非金屬礦產(chǎn)品(石英砂、高純石英砂、硅藻土、鋰輝石、透鋰長石、螢石、白云石、石灰)等，因品種較多未能盡列歡迎廣大客戶和廠商來電來函洽談合作。

主營產(chǎn)品：少釹拋光粉,氫氧化鋰,無水氯化鋰,鋰輝石,硼酸,五水硼砂,無水硼砂,十水硼砂,工業(yè)碳酸鋰 公司成立年份：2002
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拋光粉通常由氧化鈰(VK-CE01)、氧化鋁(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化鐵、氧化鋯(VK-R30F)、氧化鉻等組份組成，不同的材料的硬度不同，在水中的化學性質(zhì)也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化鋯為7，氧化鐵更低。氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學活性較高，硬度也相當，因此廣泛用于玻璃的拋光。為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3－8的氟；純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。對ZF或F系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此因選用不含氟的拋光粉為好。（1）微粉粒度均勻一致，在允許的范圍之內(nèi)；（2）有較高的純度，不含機械雜質(zhì)；（3）有良好的分散性和吸附性，以保證加工過程的均勻和高效，可適量添加LBD-1分散劑提高懸浮率；（4）粉末顆粒有一定的晶格形態(tài)，破碎時形成銳利的尖角，以提高拋光效率；（5）有合適的硬度和密度，和水有很好的浸潤性和懸浮性，因為拋光粉需要與水混合。