高純硅鋁靶,硅鋁靶源頭廠(chǎng)家,

? ? ? 預計年我國濺射靶材的市場(chǎng)規模有望持續擴大，復合增速將維持在2016年20%左右增速水平。大部分國家銦消費的70%都用來(lái)生產(chǎn)ITO靶材電子半導體和無(wú)線(xiàn)電領(lǐng)域銦具有沸點(diǎn)高、低電阻和抗腐蝕等特性，在電子半導體和無(wú)線(xiàn)電行業(yè)也有廣泛應用。有相當大部分的金屬銦用于生產(chǎn)半導體材料。在無(wú)線(xiàn)電和電子工業(yè)中，銦用于制造特殊的接觸裝置，即將銦和銀的氧化物經(jīng)混合后壓制而成。為了提高LED芯片的出光效率，人們想

2024-08-19 面議/套

濺射靶材供應商家 濺射靶材

高真空鍍膜機一般由以下幾部分組成：真空系統、高真空鍍膜工作室、電氣控制與安全保護系統。采用電阻加熱，可加熱蒸發(fā)各種非難熔的金屬與非金屬材料。電極用橡膠圈與真空室底版密封，為了防止在加熱時(shí)電極過(guò)熱致使密封，對電極通水冷卻。電阻加熱元件采用高熔點(diǎn)的金屬鉬片制成舟狀，機械泵：機械泵是利用機械方法來(lái)獲得低真空的主要設備，也是高真空機組的前級泵。機械泵主要有圓柱形定子、偏心轉子和滑動(dòng)翼片組成。機械泵不宜用于

2024-08-19 面議/套

鎳鉻管靶 高純鎳鉻靶材 NiCr

一種高致密度的硅鋁旋轉靶材的制備方法，它具有工藝簡(jiǎn)單、所制備的靶材品質(zhì)較佳的特點(diǎn)。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：高致密度的硅鋁旋轉靶材的制備方法，包括以下步驟：(1)制備噴涂粉末；(2)預處理靶材背管；(3)對靶材背管?chē)娡看虻讓樱?4)用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材。所述步驟(1)中，制備噴涂粉末的方法為：以質(zhì)量百分比計，將90％-92％的硅粉與8％-10％的鋁粉混合后，在V型混粉機中均勻混

2024-08-19 面議/套

Ni靶材 鎳靶材密度 鎳靶材廠(chǎng)

? ? 太陽(yáng)能電池主要包括晶體硅太陽(yáng)能電池和薄膜太陽(yáng)能電池， PVD 工藝主要應用于薄膜太陽(yáng)能電池中。晶體硅太陽(yáng)能電池效率較高、性能穩定，且各個(gè)產(chǎn)業(yè)環(huán)節比較成熟，占據了太陽(yáng)能電池市場(chǎng)的主要地位。與晶體硅太陽(yáng)能電池相比，薄膜太陽(yáng)能電池材料用量大大減少，從而大幅降低了制造成本和產(chǎn)品價(jià)格，同時(shí)，薄膜太陽(yáng)能電池還具有制造溫度低、應用范圍大等特點(diǎn)。21 世紀以來(lái)，大部分國家光伏產(chǎn)業(yè)迅速發(fā)展。近年來(lái)，隨著(zhù)國家

2024-08-19 面議/套

高純銦靶,銦管靶,銦靶材廠(chǎng)家

? ? ? ITO究竟是什么？ITO是IndiumTinOdes的縮寫(xiě)，即摻錫氧化銦。是透明導電氧化物TCOs的一種，由于良好的導電性和透明性的組合性能，成為主要的透明導電材料。靶材的主要性能要求純度純度是靶材的主要性能指標之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過(guò)在實(shí)際應用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著(zhù)微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”,8“發(fā)展到12”,而布線(xiàn)寬度由0.5um

2024-08-19 面議/套

氧化鋯靶材,硅鋯靶材,硅鋯靶

? ? 磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料，具有設備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著(zhù)力強等優(yōu)點(diǎn)。因為是在低氣壓下進(jìn)行高速濺射，必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過(guò)在靶陰極表面引入磁場(chǎng)，利用磁場(chǎng)對帶電粒子的約束來(lái)提高等離子體密度以增加濺射率。磁控濺射靶材廣泛應用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著(zhù)國內靶材行業(yè)研

2024-08-19 面議/套

錫銦合金靶 高純銦靶 高純錫

? ? ? 靶材的分類(lèi)方法很多，按材質(zhì)、按形狀、按應用領(lǐng)域。按形狀可分為長(cháng)靶、方靶、圓靶。按材質(zhì)可分為金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）、合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合金等）、陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。按應用領(lǐng)域靶材可分為半導體芯片靶材、平板顯示靶材、太陽(yáng)能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。稀土領(lǐng)域，UVTM是全國范圍內稀土技術(shù)能力比較一體的后起之

2024-08-19 面議/套

99.95%高純鈮靶,鈮靶材生產(chǎn)

? ? ? 由MOCVD系統生成的材料體系。平板顯示器件都要用到各種類(lèi)型的薄膜，沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，幾乎所有類(lèi)型的平板顯示器件都會(huì )使用大量的鍍膜材料來(lái)形成各類(lèi)功能薄膜，其所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材，平板顯示器的很多性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關(guān)。平板顯示

2024-08-19 面議/套

氧化鋅鋁靶材廠(chǎng)家 氧化鋅鋁

? ? ? 難熔金屬一般指熔點(diǎn)高于1650°C并有一定儲量的金屬，包括鎢、鉭、鉬、鈮、鉿、鉻、釩、鋯和鈦，也有將熔點(diǎn)高于鋯熔點(diǎn)即1852°C的金屬稱(chēng)為難熔金屬。以這些金屬為基體，添加其他元素形成的合金稱(chēng)為難熔金屬合金。[0003]作為濺射靶材使用的難熔金屬主要指鎢鉬鉭鈮。難熔金屬材料作為濺射已經(jīng)運用在包括液晶顯示器、薄膜太陽(yáng)能光伏、智能玻璃在內的多個(gè)領(lǐng)域。其中難熔金屬旋轉靶材是制造難熔金屬薄膜的必

2024-08-19 面議/套